مقاله تاثیر دما برروی خواص تشعشعی ساختارهای چند لایه ای برای سیلیکون تقویت شده با پوشش نانومقیاس تحت فایل ورد (word) دارای 6 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله تاثیر دما برروی خواص تشعشعی ساختارهای چند لایه ای برای سیلیکون تقویت شده با پوشش نانومقیاس تحت فایل ورد (word) کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.

این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله تاثیر دما برروی خواص تشعشعی ساختارهای چند لایه ای برای سیلیکون تقویت شده با پوشش نانومقیاس تحت فایل ورد (word) ،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله تاثیر دما برروی خواص تشعشعی ساختارهای چند لایه ای برای سیلیکون تقویت شده با پوشش نانومقیاس تحت فایل ورد (word) :

سال انتشار: 1389

محل انتشار: اولین کنفرانس ملی علوم و فناوری نانو

تعداد صفحات: 6

چکیده:

مطالعه تاثیر خواص تشعشعی در ابعاد نانو جهت کنترل بهتر گرما در تولید و سایل نیمه هادیها ضروری است بسیار ی ازاجزای نوری و نیمه هادیها توسط لایه های نازک پوشش داده می شوند لذا مطالعه سطوح پوشیده شده با فیلمهای نازک از اهمیت بسزایی برخوردار می باشد در این مقاله سیلیکون تقویت شده با یونهای دهنده و غلظت 1e18 با پوشش دی اکسید سیلیکون در دماهای مختلف مورد بررسی گردید و نتایج مقایسه شد ضخامت سیلیکون 700m و ضخامت پوشش دی اکسید سیلیکون 653nm می باشد اشعه ورودی بصورت قائم می تابد نتایج نشان داد که افزایش دما منجر به کاهش ضرایب بازتاب و عبور می گردد که این امر به علت افزایش ضریب جذب با افزایش دما است سیلیکون در دماهای بالا بصورت جسم کدر رفتار می کند و لذا ضریب بازتاب در دماهای بالا به صفر می گراید نتایج نشان داد که برای دمای بالاتر از 617درجه ضریب عبور مستقل از طول موج می شود همچنین تغییر پوشش و غلظت در دماهای بالا تاثیر چندانی بر روی ضریب صدور کلی ندارند نتایج نشان داد که ضریب بازتاب برای طول موج حدود 400nm ثابت می شود و لذا می توان از این ساختار به عنوان فیلتر خوبی برای ناحیه فرابنفش استفاده نمود.